כפי שכולנו יודעים, יש רק יצרן אחד בעולם שיכול לייצר ליטוגרפיה EUV, זהASML של הולנד.
הסיבה לכך שיש רק יצרן אחד בעולם היא ש-ASML קשרה יצרנים מרכזיים רבים יחד, כמו Zeiss (Zeiss), חברת אופטיקה גרמנית, Cymer (ארה"ב), וכןTRUMPF (גרמניה).
ASML קשרה את היצרנים הללו למרכבה שלה באמצעות השקעה, רכישה, החזקת מניות, הקמת מרכזי מחקר וכן הלאה, והיצרנים הללו, הם כנראה היצרנים היחידים בעולם שיכולים לייצר את המוצרים הללו, כך שבסופו של דבר רק ASML בעולם יכולה לייצר ליטוגרפיה EUV.
עם זאת, לאחרונה, שרשרת אספקה מרכזית של ASML, רצה לשנג'ן, סין כדי לבנות מפעל, חברת הבת שלה שנזן התיישבה בפארק ההפגנות התעשייתי של Baoan Sino-German (אירופה).
יצרן זה הוא קבוצת TRUMPF של גרמניה (TRUMPF), זוהי ליטוגרפיית EUV של ASML, ספקית מקור הלייזר היחידה בעולם.
מוצרי TRUMPF בליטוגרפיה EUV, כמה חשוב? ראשית, תקשיב לי להסביר את העיקרון של ליטוגרפיה EUV, אתה תבין.
העיקרון של ליטוגרפיה EUV, בפשטות, מתרכז בשלוש מערכות עיקריות, מערכת מקור האור האולטרה סגול EUV, מערכת המראה האובייקטיבית ומערכת השולחן.
התהליך הספציפי הוא שימוש בלייזר כדי לעורר אורך גל של 13.5 ננומטר של אור אולטרה סגול קיצוני, אשר לאחר מכן מתוקן ליצירת קרן אור מבוקרת, אשר לאחר מכן מוקרנת על שולחן פוטומסכת לפני שהיא מוקרנת דרך מראה אובייקטיבית על שולחן חשיפה ולבסוף חרוט לתוך מעגל על פרוסת סיליקון מצופה פוטו-רזיסט.
כיצד מתקבלת אחת ממערכות מקור האור EUV UV על ידי הפצצת טיפת מתכת מפח (Sn) בלייזר CO2 בהספק של 30 קילוואט, אידוי לפלזמה ולבסוף השגת אור EUV באורך גל של 13.5 ננומטר.
לייזר CO2 זה 30 קילוואט מסופק על ידי TRUMPF, היחיד בעולם.
אל תזלזלו בלייזר CO2 זה, יש לו 457,329 חלקים, אורך הכבל במערכת הוא עד 7,322 מטר, והמשקל הוא 17,090 ק"ג, שהוא אחד ממרכיבי הליבה החשובים ביותר בליטוגרפיה EUV.
כעת TRUMPF רצה לסין לבנות מפעל, הכוונה ברורה, כלומר אופטימית לגבי שוק הלייזר הסיני, ועוד יותר ראייה ארוכת טווח, אופטימית לגבי שוק הליטוגרפיה הסיני, העתיד עשוי לשתף פעולה עם סין לבניית ליטוגרפיית EUV .
למעשה, יש כבר יותר משרשרת אספקה אחת ASML שרצה לסין כדי לבנות מפעל, יש KMWE ויצרנים אחרים, גם לסין כדי לבנות מפעל.
על פי המגמה הנוכחית, אנו יכולים לצפות באופטימיות שאולי לא יעבור זמן רב עד שטכנולוגיית הליטוגרפיה של סין תהיה צעד גדול קדימה, ואפילו נפח הפלט של ליטוגרפיית EUV יכולה גם לצפות, אתה חושב?
